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制造/封装  

具有变化意识的实用DFM设计方法

上网日期: 2008年03月11日  打印版 订阅

关键字: 可制造性设计  光刻  良品率 

[摘要提示] 因为光刻导致的变化对时序、功率和噪声具有直接的影响,现有解决方案足以满足亚90纳米设计要求吗?目前的时序验证方法使用“边界案例”分析来估计时序方面的器件电气特性。这些边界案例来源于硅片的理想化测试结构,它们不能反映出由于版图环境产生的系统性形状变异。为了解决系统性变化影响,对多个裸片和晶圆的采样测试获得的+/-3sigma‘案例’必须进......
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