Global Sources
电子工程专辑
 MCU DSP 智能手机          电子技术资料下载                   
电子工程专辑 > 技术文库 > 制造/封装 > 正文
 
制造/封装  

利用新的布线架构应对先进工艺节点设计挑战

上网日期: 2008年10月09日  打印版 订阅

关键字: 优化,良率,布线, 

[摘要提示] 时序、面积、功率和信号完整性历来是设计技术的主要指标。此外,可制造性和良率也逐渐成为关键的设计要素,对于90nm及以下工艺而言尤其如此。为了解决可制造性问题,设计流程中增加了多良率优化技术,这些技术从简单到复杂无所不有。简单的技术包括,用以提升总良率的天线检查和修复技术;用以提升过孔相关良率的冗余过孔插入技术;用以提升微粒相关良率......
请登录或注册网站阅读全文>>
 
 

我来评论 - 利用新的布线架构应对先进工艺节点设计...
评论:
*  您还能输入[0]字
验证码:


 
最新论坛热门讨论

新浪微博关注

 

2011年12月《中国IC设计特刊》

本期《中国IC设计特刊》围绕发展新能源产业、新能源汽车、节能产业的出发点,透视十二五元年,绿色能源表现,同时介绍在电源节能设计中的技术创新及趋势,聚焦新材料研究进展与智能电表市场的最新动向,为实现高效节能提供技术参考。

 

 

 

上周热点文章排行榜 论坛热贴 热门博文           



热门 经典 文章 论坛 博客
Rf    Nfc    mcu    dsp    变频器    安捷伦    rohs    pfc    mems    labview    ee    石墨烯    嵌入式    电解电容    lvds    igbt    soc    pwm    ofdm    eda    dac    智能电网    深圳单片机开发    电子工程专辑    stm32    rs485    iptv    hdd    emi    asic    以太网    无线充电    平板电脑    单片机    poe    ldo    h.264    esd    arm