EDA/IP/IC设计 
确保高质量DFT，提升芯片良率
[摘要提示] 作者：邵乐峰随着电子产业进入深亚微米工艺节点，集成电路设计的成本大幅增加，确保一次性流片成功已成为芯片设计者的基本要求和重要目标。与此同时，IC设计技术和工艺技术间的信息交换变得非常关键，传统的设计方法已不能满足设计需求。为保证芯片良率，包括IC设计公司、代工厂、IP/EDA工具供应商在内的产业链各环节需要密切合作，缩短研发周期并降低成......
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