目前半导体工艺已微缩到 10 纳米以下,大家都寄望借由极紫外光微影设备(EUV)协助工艺向前发展,也使摩尔定律(Moore’s Law)再往下延伸。不过就目前生产 EUV 设备的艾司摩尔(ASML)来说,因为制造难度,已积压了大量订单在手上。有国外媒体指出,艾司摩尔 EUV 设备生产不顺的主因,就是来自光学镜头供应商蔡司(Carl Zeiss)供货进度跟不上需求所致。 Headoffice-and-Development-and-Engineering-building_office_45-624x416 外媒报导指出,艾司摩尔 EUV 的光学镜头是德国蔡司公司生产,但蔡司的镜头供货量不足,导致艾司摩尔 EUV 极紫外光微影设备生产进度缓慢。据了解,7 月艾司摩尔出具报告,至今已积了多达 21 台 EUV 订单,每台 EUV 订单成本高达 1.5 亿美元,而 2017 年底前最多只能交付 8 到 9 台 EUV 设备。 20171013-ASML-carl-zeiss 报导指出,根据外界预估,三星和台积电都宣布将在 2018 年试生产内含 EUV 技术的圆晶工艺,使 2017 年 EUV 设备的销售金额预计达 14.82 亿美元,这比 2016 年的 10.36 亿美元足足成长了 43%,且这个数字在 2019 年还将进一步上升到 30 亿美元。

艾司摩尔的客户都是一些半导体大厂,比如台积电、三星、英特尔(Intel)等,如果拿不到 EUV 设备,新世代工艺的生产计划必定会受影响,谁也不想看到这样的情况发生。据了解,目前 EUV 设备生产还面临一些问题需调整。除了蔡司镜头供应不足,还有芯片保护膜仍需改进。

现阶段,在三星和台积电都宣布将试产内含 EUV 技术的圆晶,反观半导体大厂 Intel 的态度则不疾不徐。虽然 Intel 不是目前第一个采用 EUV 技术量产圆晶的企业,但将来 Intel 或许会是买最多 EUV 设备的公司。 20171013-ASML-EUV-1 2017 年三星资本支出已达 170 亿美元,Intel 则是 120 亿美元,台积电也有 100 亿元美元,最少的是格罗方德,只有 25 亿美元。但所有厂商在 EUV 部分的花费总共才 14.82 亿美元。预估 2019 年这个数字会进一步上升至 30 亿美元,Intel 为加速步伐,并与竞争对手抗衡,将会较大程度的采购 EUV 设备来强化技术,这就是关键手段之一。

本文综合自超能网、Technews报道

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