广告

将图形匹配与DFM属性进行集成,从而改善和优化版图

时间:2018-09-17

随着设计复杂性和规模的不断增长,特别是在最先进的节点上,图形匹配的使用已扩展到 DFM 流程中。将Calibre Pattern Matching功能与DFM操作相结合,可以给新设计带来各种不同的改善和优化选择,包括填充方向、图形集群和增强对称性检测。将Calibre Pattern Matching 功能集成到DFM流程中,设计人员可以确保在流片之前对其设计的可靠性、性能和制造进行快速准确的优化。

关于 Mentor
Mentor, A Siemens Business是电子硬件和软件设计解决方案的世界领导者,主要产品为集成电路芯片和系统开发的各种设计、仿真、验证、测试工具。领先的工具包括:芯片物理验证工具 Calibre ®系列及OPC、芯片测试工具 Tessent ® DFT, SoC验证软件CDC ,Questa ® 及 Veloce ® 硬件仿真器、模拟电路仿真软件AFS™,IoT 及混合信号全流程芯片设计平台 Tanner, FPGA设计软件, PCB 设计Xpedition® 及高速电路分析软件Hyperlynx。

广告
热门新闻
广告
广告
广告
广告
广告
广告
广告