广告

在工艺开发过程中提高新设计风格的良率

时间:2018-11-02

测试载具对于新工艺的良率提升和成熟节点的良率提高至关重要,但针对没有相关历史数据的新设计风格和工艺设计精确测试结构可能很困难。利用创新的版图模式生成器 (LSG) 流程,设计团队可以为新设计风格生成测试宏,从而显著减少早期工艺开发期间达到期望良率所需的时间。

关于 Mentor
Mentor, A Siemens Business是电子硬件和软件设计解决方案的世界领导者,主要产品为集成电路芯片和系统开发的各种设计、仿真、验证、测试工具。领先的工具包括:芯片物理验证工具 Calibre ®系列及OPC、芯片测试工具 Tessent ® DFT, SoC验证软件CDC ,Questa ® 及 Veloce ® 硬件仿真器、模拟电路仿真软件AFS™,IoT 及混合信号全流程芯片设计平台 Tanner, FPGA设计软件, PCB 设计Xpedition® 及高速电路分析软件Hyperlynx。

广告
热门新闻
广告
广告
广告
广告
广告
广告
广告