业界资料显示,当下全球仅有阿斯麦(ASML)能制造出 EUV光刻机。过去的十年时间里,阿斯麦总共售出大约140套EUV光刻机,现在每一套系统的成本高达2亿美元。
晶圆代工厂商频繁下单
2017年,ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出。此后三星的7nm/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。
目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术,以满足高性能计算等先进芯片需求。而3/2nm工艺的实现则需要依赖于ASML新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列。
但是,High NA EUV光刻系统造价相比前代的EUV光刻机也更高了,达到了3亿美元。
据了解,EXE:5000主要面向的是3nm工艺。而第二代的0.55 NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200将会被用于2nm工艺的生产。
ASML官方表示,在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的订单。自2018年以来,ASML已经收到四份TWINSCAN EXE:5000的订单。
此外,今年1月19日,ASML宣布2022年一季度,其第二代High-NA光刻机TWINSCAN EXE:5200获得了首个订单,第二代High-NA光刻机被用于2NM制程芯片制造,有望在2024年实现交付。
结合2021年7月底,英特尔曾宣布将在2024年量产20A工艺(即2nm工艺),并透露其将率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机。由此表明率先拿下首批第二代High-NA光刻机的企业或许正是英特尔。
此外,业界消息显示,台积电此前已经向ASML采购High-NA研发型EUV光刻机EXE:5000,在英特尔采购TWINSCAN EXE:5200后,台积电预计在今年会跟进下单TWINSCAN EXE:5200。
据3月23日外媒报道,ASML官方表示,TWINSCAN EXE:5000将会在今年下半年出货,每小时可生产185片晶圆。而TWINSCAN EXE:5200将会在2024年底出货,每小时可生产超过220片晶圆。
来源:旺财芯片
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