EDA资料大全:模拟混合信号IC设计全流程、TannerL-Edit版图及定制工艺设计等IC设计必备资料及视频

EETOP 2022-05-10 11:50

当前,集成电路 (IC) 设计人员面临着严峻的开发挑战,并需要满足严苛的上市时间期望。Siemens EDA 全流程有一个丰富的环境,高度可配置且非常灵活,为混合信号设计人员提供了许多易用功能。西门子特为EETOP会员朋友们提供了丰富的技术干货,包含:4篇深度技术文章+4场精彩的线上技术论坛回放。

部分资料内容简介

在当今的 MEMS 设计领域,集成比以往任何时候都更重要。西门子Tanner MEMS 设计流程不仅简化了 MEMS 器件与模拟/混合信号处理电路的集成,还提供了改善 MEMS 器件可制造性所需的工具。Tanner L-Edit MEMS是一种高级版图编辑器,具有曲面多边形和任意角度布尔运算等能够支持 MEMS 版图设计的功能。与其他专为机械工程而设计的 CAD 工具不同,L-Edit MEMS 以半导体产线的精度进行版图开发,针对MEMS器件特有的曲线结构可以实现直接绘制、图形逻辑运算及图层派生。同时可以无缝衔接CAD工具输出的数据格式,方便不同的设计团队在不同的设计阶段进行数据转换。利用众多强大的功能,例如出色的曲线支持、交互式 DRC、布尔运算、对象捕捉和对齐,可以更高效地开展工作, 以节省时间和成本。

4篇技术文章开篇截图:

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4个视频文件列表:
  • MEMS器件开发:高效率L-edit版图及定制工艺设计平台

  • Siemens EDA模数混合芯片开发全流程by Tanner

  • 第三代半导体与功率器件

  • 硅基光电子芯片开发EDA全流程


资料获取:

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