美国将36家中国高科技企业及研发机构列入美出口管制“实体清单”，继续扩大对中国半导体产业的打击。消息一出，很多人便注意到了国内知名存储芯片公司长江存储，但同时大家可能忽略了名单中另一家重点企业--上海微电子。上海微电子--中国光刻机产业之光很多人可能不知道，上海微电子是目前中国境内最先进的光刻机企业，它生产的600系列光刻机最高工艺能达到180nm，在整个国内市场上占据很高的市场份额。
除此之外，上海微电子的6000系列光刻机技术也很成熟，它的制程工艺达到了90nm，对于国产中低端芯片的研发制造有着巨大助力。因此，可以说上海微电子在中国光刻机产业中的地位相当高，类似于芯片代工企业中的中芯国际，都是各自领域中的重要存在。
国产光刻机研发进度受拖累虽然上海微电子是国内最大的光刻机企业之一，但还与ASML等国际光刻机巨头有很大差距，一些关键零件依旧受制于他国。据悉，上海微电子光刻机的部分主要零部件来自MKS等美国零部件供应商，而这些零部件国产化率又很低。
再加上零部件是个非常考验基础研究和长期主义的小而美赛道，其技术壁垒极高，国内短期内取代美国供应商的可能性几乎为零。
而如今美国却正式下令封杀上海微电子，不让上海微电子买到任何美国的技术、设备和原材料，这将给国产光刻机的研发进展蒙上阴影。
要知道早在2020年，就媒体报道，上海微电子披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机，但到现在2022年已经接近尾声，没有等来上海微电子交付的第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机消息，却等来了上海微电子被美国彻底封杀的消息，这不免让人心酸。
不得不说，美国的这招果然够毒，封杀中国最大的光刻机企业之一，让国产光刻机研发进度受拖累，而没有光刻机，国产芯片也必然会大受影响，或许最艰难的时刻已经到了。
值得注意的是，这不是国产光刻机产业第一次被打压了！国产光刻机产业多次被打压ASML CEO曾表示，中国举国之力也造不出EUV光刻机，即便公开图纸，也没人能造出；日本光刻胶供应商JSR公司的CEO埃里克•约翰逊，也指出中国根本无法掌握基于极紫外光刻技术，或者是被称作EUV光刻技术的复杂芯片制造工艺。
以上两家企业CEO明里暗里的意思都看不起中国制造光刻机的能力。但实际上，中国在光刻机研发制造上起步并不晚，曾经一度和国际顶尖的光刻机制造水平也相差不大。
早在1966年，一零九厂和上海光学仪器厂就曾联手研制出了国内历史上第一台65型接触式光刻机，研制成功后由上海无线电专用设备厂投入量产。而到了1985年，由电子部45所成功研发并制造出了国内第一台分布式光刻机：BG-101！值得一提的是，此时中国光刻机的制造水平与国际顶尖水平的差距不到7年。可惜到了1996年就变了，当时30多个国家共同签署了”瓦森纳协定“！而根据协定，要求对中国出口的半导体技术及光刻机设备，要比同期国际最先进技术落后两代。
此外，彼时中国没有多余资金用在光刻机的自主研发上，这就导致与国外的差距再次被无限拉开，再加上近年来美国对上海微电子等国产光刻机企业的无理打压，国产光刻机技术短期内似乎已经到了无法追赶国际顶尖水平的地步了。
