晶驰机电半导体材料装备研发生产项目投产!

DT半导体材料 2024-11-27 18:03

12月5-7,由DT新材料主办的第八届国际碳材料大会暨产业展览会(Carbontech 2024)将在上海新国际博览中心隆重举办。同期针对半导体与加工主题特设4大论坛,宽禁带半导体及创新应用论坛、超硬材料与超精密加工论坛、金刚石前沿应用与产业发展论坛、培育钻石论坛,已邀请国内外知名专家和企业莅临交流,欢迎报名。

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据“平湖新埭”官微消息,11月26日,晶驰机电半导体材料装备研发生产项目投产仪式在新埭镇举行,投产仪式结束后,与会人员一起见证了晶驰机电首台MPCVD设备交付。

图源:平湖新埭官微

晶驰机电(嘉兴)有限公司成立于2023年,公司由杭州晶驰机电科技有限公司持股100%,主要从事碳化硅、金刚石、氮化铝等第三代、第四代半导体设备的研发、生产和销售。公司分别与浙江大学杭州国际创新中心、杭州电子科技大学共建联合实验室。目前公司产品包括6英寸水平进气和8英寸垂直进气碳化硅外延设备(LPCVD法),金刚石晶体生长设备(MPCVD法),氮化铝晶体生长设备,碳化硅源粉合成炉,碳化硅晶体生长设备(PVT法),氧化镓单晶生长炉(导模法、CZ法),各种晶体和晶片热处理炉。达产后预计实现年产值1.4亿元。

   展商推荐——杭州晶驰机电科技有限公司   展位号W1E19

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第八届国际碳材料产业展览会

杭州晶驰机电科技有限公司

展位号:W1E19

杭州晶驰机电科技有限公司 成立于2021年7月,公司总部与研发中心位于杭 州市萧山区浙江大学杭州国际科创中心,办公面积约1000㎡。


目前公司产品包括6英寸水平进气和8英寸垂直进气碳化硅外延设备(LPCVD法),金刚石晶体生长设备(MPCVD法),氮化铝晶体生长设备,碳化硅源粉合成炉,碳化硅晶体生长设备(PVT法),氧化镓单晶生长炉(导模法、CZ法),各种晶体和晶片热处理炉。

产品展示

915MHz微波等离子体沉积系统(裂缝天线耦合)

该设备为微波等离子化学气相沉积系统(MWCVD)。采用915MHz频率的微波源激发稳定的等离子体。该设备可以稳定生长金刚石单晶材料、多晶晶圆。通过工艺调节,可以稳定生长出 4 英寸(~6英寸)的金刚石晶圆薄膜。

主要应用领域:半导体衬底、热沉片、珠宝、刀具、机械密封、新一代移动通信、智能电网、消费类电子等。


裂缝耦合微波等离子体沉积系统

该设备为微波等离子化学气相沉积系统(MWCVD)。采用2.45GHz频率微波源,激发稳定的等离子体。电场激发模式为TM021模式,该系统可以稳定生长金刚石单晶材料、多晶晶圆。通过工艺调节,可以稳定生长出 2 英寸到3英寸的金刚石晶圆薄膜。
主要应用领域:半导体衬底、热沉片、珠宝、刀具、机械密封、新一代移动通信、智能电网、消费类电子等。

蝶形腔微波等离子体沉积系统

该设备为微波等离子化学气相沉积系统。采用多模耦合系统模式。可以稳定生长金刚石单晶、多晶薄膜材料。通过工艺调节,可以稳定生长出 3英寸的金刚石晶圆薄膜。

该设备特点在于掀盖腔体设计,便于操作及清洁,从而提高生产效率。可用于生产宝石(实验室培育金刚石)、光学元件及光学级多晶金刚石薄膜、超高硬度切割工具、半导体散热器、高功率半导体元件等。


ATSIC -200型PVT炉

该设备为碳化硅晶体生长设备,采用物理气相传输法(pvt),具有两个温区,在一定温差范围内相互独立可控;籽晶升降系统确保籽晶在晶体生长热场内的生长位置可调;石墨坩埚旋转系统可以进一步的保证晶体生长热场的均匀性;自动化程度高,是可稳定生长 8英寸 SiC 晶体的设备。

单腔立式碳化硅外延炉

1、相较现有立式外延炉有更低的硬件成本,更小的占地面积;

2、兼容4/6/8寸晶圆外延生长,成膜质量好,可实现厚外延层快速生长;

3、更长的维护周期,更低的耗材成本;


第二代碳化硅晶片腐蚀清洗设备

设备采用双工位设计,全封闭工作台和强排风系统有效防止腐蚀性碱蒸汽对操作人员的身体伤害。该系统集SiC晶片热强碱腐蚀、快速清洗,再次超声清洗和晶片烘干为一体,充分避免了操作人员与腐蚀性强碱溶剂的接触。整个工艺流程全部自动化控制,操作人员只需完成取放片操作,腐蚀效率高,适合产业化应用。


DRY-60A型热处理炉(电动)

该设备可稳定实现碳化硅晶片与石墨件之间的粘合及固化处理,可实现工件的原位除气、退火等工艺要求。设备按照国家、行业相关标准进行设计,其结构简单、设计合理、操作便捷、人机交互友好、温度和压力可以自动控制。

本设备可广泛应用于碳化硅籽晶粘接、陶瓷烧结,金属扩散焊接等工艺技术,满足产品生产、技术研究、新材料合成的需求。

热退火炉

本设备用于碳化硅晶锭和碳化硅晶片的高温退火,也可用于金属冶金材料的脱脂、脱蜡处理;可供功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、粉末冶金等在高温条件下进行烧结处理,也可在充气保护情况下成型烧结。

该设备加热元件均布炉腔内,分布合理,设备稳定性高;炉温和压力控制均采用自适应PID控制,温度和压力曲线跟随性好;能够实现全自动作业流程。




第八届国际碳材料大会暨产业展览会将于2024年12月5-7日在上海举办!杭州晶驰机电科技有限公司邀您共聚上海新国际博览中心,展位号W1E19,不见不散!


   第八届国际碳材料大会暨产业展览会

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评论
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