据路透社报道，上周三位知情人士告诉路透社，在美国对英伟达的 H20 人工智能芯片的原始型号实施出口限制后，英伟达计划在未来两个月内为中国推出该芯片的降级版本。
其中两位消息人士称，这家美国芯片制造商已通知包括主要云计算供应商在内的中国大客户，其目标是在 7 月推出经过改良的 H20 芯片。
面对美国政府扩大对中国获取先进半导体技术的限制，这款降级的 H20 芯片体现了英伟达在其最重要的市场之一维持市场份额的最新努力。
H20 是英伟达专门为中国市场推出的 H200 特供版本，尽管其性能相比 H200 有大幅削减，但此前一直是英伟达在中国市场销售的最强大人工智能芯片。然而上个月，美国官员告知英伟达，H20 产品需要出口许可证，这实际上导致该芯片被禁止进入中国市场 。
英伟达已经制定了新的技术门槛，将指导改良芯片设计的开发。其中一位消息人士称，这些技术规格将使芯片相比原始的 H20 大幅降级，包括显著降低的内存容量。
另一位消息人士称，下游客户可能会修改模块配置，以调整芯片的性能水平。
英伟达拒绝置评。美国商务部没有立即回应置评请求。
在截至 1 月 26 日的财年中，中国市场为英伟达贡献了 170 亿美元的收入，占英伟达总销售额的 13%。
上个月，英伟达首席执行官黄仁勋访问了北京，突显了中国市场对该公司的战略重要性，而就在几天前，美国官员宣布了对 H20 芯片的新出口许可证要求。
在与中国官员的会面中，黄仁勋强调了中国作为该公司关键市场的重要性。
自 2022 年以来，美国以担心芯片的潜在军事应用为由，限制了英伟达最先进芯片对中国的出口。
来源：官方媒体/网络新闻
会议背景
近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业
链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间
从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该
市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方
掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到
120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)
三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、
冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替
代方面取得初步突破。
2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制
造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。
在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一
些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材
等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，
国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年
成立)等。
“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望.
会议主题
——江苏路芯半导体技术有限公司
冠石科技光掩模项目进展与半导体掩膜产业展望
——宁波冠石半导体有限公司
纳米光刻技术前沿
——中科院苏州纳米所
导向自组光刻技术
——复旦大学
高分辨光刻胶的研发和产业化
——国科大/国科天骥公司（待定）
光刻胶在 EUV 技术中的应用与发展趋势
——上海同步辐射光源
纳米压印光刻胶
——徐州博康信息化学品有限公司
标题待定
——卫利国际科贸（上海）有限公司
标题待定
——济南圣泉集团股份有限公司
用于半导体光刻、量测及掩膜的国产化高端石英材料的开发与应用进展介绍
——长飞石英技术（武汉）有限公司
中国光刻胶产业链的整合与自主创新能力提升
——上海新阳（待定）
光刻胶国产化替代探讨
——湖北鼎龙控股股份有限公司（待定）
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