华为科普:芯片设计制造全流程!国产首台28nm光刻机完成认证

滤波器 2021-11-27 23:00
一、华为科普:芯片设计制造全流程!

由沙成芯,方寸之间。
指尖大小的芯片,内含153亿个晶体管。
如此复杂的工艺是如何实现的?
漫解麒麟芯片的内“芯”世界!

本期的问题是:
1、芯片的设计与制造过程可以分为哪三步?
2、VeriLog HDL是什么?




二、国产首台28nm光刻机完成认证,网友:ASML、台积电要着急了

在过去,“科学无国界”这句话被广泛提起,不少企业也为了快速发展,也选择了“拿来主义”,也就是“造不如买,买不如租”的理念。

在当时,这无疑是能够快速地完成原始积累的好办法,但是在如今科技进步发展浪潮下,我们更多的提到的是自主研发创新,打破国外的垄断,从中国制造到“中国智造”。



因为华为用它的现实遭遇告诉我们,现在不自强,只会受制于人,甚至面临生存危机。

华为原本已经在5G领域撕开了口子,简单来说,通讯技术发展至今,每10年一次技术更新,5G之前我们都是在追赶,直到华为通过不断向自主研发,才真正的打破国外技术的壁垒,让我们成功的在5G时代引领全球。

如今我国的5G基站数量达到96.1万个,占了全球总量的70%;5G 终端连接用户约3.65亿户,更是占据全球总量的80%。能够取得如此瞩目的成就,这其中一定有华为的一份功劳。




但是即便是华为,也被“卡脖子”了,这也是余承东提到的,华为后悔当时只做了芯片设计,而忽略了芯片制造。
任正非也表示:国内的基础工业没法帮助华为把设计好的芯片制造出来,因为华为的麒麟9000芯片完全是自主设计,但是却由于没法生产而断供。
而说到芯片制造,最重要的设备非光刻机莫属,一台顶级的EUV光刻机重达180吨,内部超过10万个来自全球各地的零部件,售价更是高达1.2亿美元。更为关键的是,不是想买就能买到的。



所以国产光刻机显得迫在眉睫,但是此前国产光刻机龙头上海微电子的光刻机只有90nm工艺,与ASML生产的5nm工艺EUV光刻机还有较大差距。
好在有好消息传来,上海微电子自主研发的国产首台28nm工艺光刻机已经完成了技术检测和认证,年底就可以实现量产交付了!

而且按照倪光南院士的预测,28nm光刻机是完全可以生产14nm制程工艺的芯片的。



要说28nm光刻机的落地,不少网友表示应该感到着急的就是ASML公司和台积电了。
对于ASML公司来说,其多次表态,会在中国加大投资力度,而且也可以把DUV光刻机卖给我们,毕竟中国市场还是很大的。
但是这次国产的28nm光刻机一旦量产下线,ASML的表态已经没有那么重要了,因为先进的EUV光刻机他们又无法提供,成熟工艺的光刻机我们也不缺了。那么我们自然更愿意把产品交给国产光刻机厂家,只有这样,才能在不断使用和实践中,进一步促进更先进的国产光刻机设备研发落地。


再谈到台积电,台积电已经宣布在南京的28nm工厂顺利推进,而国产芯片代工龙头中芯国际现在主要的加工芯片制程就是28nm,这不免让人有抢夺国产28nm芯片的感觉。
而这次28nm光刻机如果落地,那么对于中芯国际来说也可以是一大助力,可以尽快缩短与台积电的差距。
总的来看,这次上海微电子公司国产的28nm光刻机,不仅让ASML、台积电等要着急起来了,更是意义非凡。



国产光刻机的突破也只是我们自主研发创新成果的一个缩影,除了光刻机之外,还有更多的“卡脖子”技术等待我们攻克。

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