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华力55纳米超低功耗工艺终获认可 国内一线Foundry稳步前行

时间:2017-04-11 作者:张迎辉 阅读:
为什么上海华力微电子有限公司的55纳米超低功耗工艺在第五届中国电子信息博览会(CITE2017)获评为“2017CITE创新产品和应用金奖”,受到各界的肯定?

上海华力微电子有限公司的55纳米超低功耗工艺在第五届中国电子信息博览会(CITE2017)获评为“2017CITE创新产品和应用金奖”。电子工程专辑记者第一时间在CITE2017上采访了上海华力微电子有限公司副总裁舒奇,请他介绍了华力微电子55纳米超低功耗工艺的技术细节以及应用前景。fTIEETC-电子工程专辑

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图:工信部副部长刘利华及电子信息司司长刁石京等领导视察华力微电子展台(图片来源:华力微电子)fTIEETC-电子工程专辑

55纳米超低功耗工艺能获奖是它满足了市场的需求fTIEETC-电子工程专辑

为什么上海华力微电子有限公司的55纳米超低功耗工艺在第五届中国电子信息博览会(CITE2017)获评为“2017CITE创新产品和应用金奖”,受到各界的肯定?华力微电子有限公司副总裁舒奇解释,华力微电子55纳米超低功耗工艺是业界领先的55纳米超低功耗工艺平台,它非常适合目前物联网相关产品,例如无线互联产品、NB-IoT(Narrow Band IoT)产品和可穿戴设备,客户的产品目前已经成功的打入了市场。fTIEETC-电子工程专辑

舒奇副总裁对记者透露,华力微电子通过对客户的调查了解到,物联网应用的关键需求是超低功耗,从器件、到IP、到SoC芯片,典型值是工作功耗小于10mW;待机功耗小于1uW;工作电压远低于正常逻辑平台的工作电压(约0.xV);SRAM单元待机漏电在1pA级别。fTIEETC-电子工程专辑

正是根据这些功耗和漏电等技术规格要求,华力定制开发出55纳米超低功耗工艺平台,工艺特点沿用了通用型55纳米低功耗工艺平台的设计规格,优化了平台工艺的漏电性能,与以前的通用型55纳米低功耗工艺平台比较电压降低了30%,功耗降低了20%。提供了eHVT和eLVT核心器件,支持核心工作电压最低调降至0.9V,可以满足广阔的物联网应用需求。fTIEETC-电子工程专辑

他指出,该工艺技术已成功量产,未来将结合射频工艺以及嵌入式闪存工艺,提供客户完整的穿戴式芯片方案。
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图:华力微电子有限公司副总裁舒奇在CITE2017展台接受电子工程专辑采访介绍55纳米超低功耗工艺fTIEETC-电子工程专辑

华力的55纳米超低功耗工艺是与全球一线的IC设计公司合作开发的,在华力已有55纳米低功耗工艺平台的基础上,通过一系列的工艺改变与器件性能提升,在芯片的速度与功耗间找到平衡点,加上相配套的关键IP以及后端先进的封装测试,进一步降低漏电,提升芯片整体性能,帮助客户的产品提升市场竞争力。对于华力来说也可持续提高工艺平台的完善度和稳定性,推而广之成为可靠性较高的55纳米超低功耗工艺平台,以此带来更多的商业应用。这就是所谓的产业链合作多方共赢的效应。fTIEETC-电子工程专辑

华力微电子12寸晶圆厂的运营状况如何?fTIEETC-电子工程专辑

目前华力微电子一厂12寸晶圆月产能3.5万片,主要是55纳米和40纳米工艺,产能利用率满载有时甚至超过100%。现在一厂的55纳米图像传感器工艺,是中国大陆最先进的图像传感器工艺平台,也是中国本土唯一利用12寸55纳米工艺节点进行高端图像传感器芯片制造,并最早进入大规模量产的晶圆代工厂。受惠于双镜头的市场需求,华力的图像处理器芯片出货将持续稳定的增长。fTIEETC-电子工程专辑

智能手机市场增长的带动下,触控和显示驱动二合一芯片(TDDI)的需求爆发。华力成为本土首家提供55纳米高压工艺平台的晶圆代工厂,该工艺平台提供业界兼容的6V中压器件和32V高压器件,具有低成本及低功耗的优势,目前该工艺平台已十分成熟,OTP IP也已完成验证。fTIEETC-电子工程专辑

当记者想了解华力微电子的营收时,舒奇表示公司不是上市公司,不对外披露财报。但他还是作了回应,“虽然12寸晶圆投资与运营成本很高,但我们目前一厂的运营状况非常好,处于盈利状况。”fTIEETC-电子工程专辑

同时舒总也回答了华力目前一厂的产能利用率、第二座12寸晶圆建厂规划以及当前半导体受大基金投资、半导体制造企业人力紧缺的问题。fTIEETC-电子工程专辑

舒奇副总裁表示,现在由智能手机的触控和显示驱动二合一芯片(TDDI)和双摄像头对于图像传感器的需求猛涨,造成了晶圆代工厂的产能紧张,这种需求他预计还会持续到整个2017年。fTIEETC-电子工程专辑

近阶段,华力服务的国内客户份额大幅攀升,这收益于国内IC设计公司的蓬勃发展势头,也符合华力建厂时的初衷,毕竟繁荣的中国半导体整体环境是我们都愿意看到的结果。他预计国内IC设计公司的会继续快速成长,会对立足国内的晶圆代工企业会有更多正面的影响。fTIEETC-电子工程专辑

华力微电子在建二厂的进展fTIEETC-电子工程专辑

华力微电子预计2016年年底前宣布启动兴建第二座12寸厂,有别于一厂定位55、40纳米特色工艺平台和28纳米工艺前期研发,新厂将从28纳米制程切入,规划月产能4万片,预计2018年投产,地点位于浦东康桥附近。fTIEETC-电子工程专辑

舒奇副总裁透露,在建二厂项目总投资387亿人民币,是一厂建厂投资145亿的两倍多。二厂的月产能计划4万片,主要会采用28纳米。包括FinFET和FD-SOI工艺,华力微电子都在研发中。今后如果市场需求兴起,华力有望迅速切入进新工艺。fTIEETC-电子工程专辑

国家半导体大基金对华力的影响fTIEETC-电子工程专辑

对于国家大基金对半导体行业几千亿的投资,舒奇副总裁认为这对于华力微电子是个巨大的利好。fTIEETC-电子工程专辑

”半导体是个高技术密集和高资本密集的产业,中国对半导体的需求已居全球之冠,但自给率仍较低,因此国家大基金有战略性的投资关键企业,包括华力微电子在内的国内的晶圆制造龙头企业,都会在其中受益。”舒奇表示。fTIEETC-电子工程专辑

两岸半导体制造业的挖角对华力的影响fTIEETC-电子工程专辑

对于现在半导体制造行业人才紧缺的现象,半导体制造行业,现在传出大陆涨两三倍薪水要挖台湾的半导体人才,位于台湾的半导体制造企业更是要用法律手段来严防人才流向大陆。一时间各大先进晶圆厂防挖角的报道不断。fTIEETC-电子工程专辑

对于这种现场,舒奇副总裁认为,晶圆制造企业内部培养人才和留住人才都很重要。“华力微电子非常注重对于人才的内部培养。大学生从高校毕业加入公司,公司针对不同职能提供系统化的培训,例如电路布局设计、fab生产流程、产品品质与可靠性验证等,通过工作上的实战经验和资深员工的带领,结合团队合作,在项目上的积累获得逐渐成长,这个过程一般需要两三年以上,成为有经验的工程师后也将传承经验給新进人员。现在中国多个12寸晶圆工厂开工兴建,对于行业人才的需求,确实突然放大,行业可能会很紧张。实际上,芯片制造行业的人才流动一直都存在,通过行业内更多的良性竞争,也带来更大的相互促进。”fTIEETC-电子工程专辑

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