广告

ASML今年预计将出货20套EUV微影设备

时间:2018-07-23 作者:Nitin Dahad 阅读:
ASML估计2018年将出货20套极紫外光(EUV)微影系统,并预期出货量在2019年将增加到30套以上...

荷兰半导体设备大厂ASML日前表示,该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)微影系统,该数量预期在2019年将增加到30套以上。

ASML是在最近发布的第二季财报中做出以上预估数字,该公司也透露其整体EUV工具销售业绩优于预期,达到约32亿美元;ASML首席执行官Peter Wennink表示,“毛利率比我们的预期略高,反映了我们的深紫外光(DUV)与应用业务的强劲表现,以及EUV获利进展。”

Peter-Wennink_150.jpg

Peter Wennink

ASML在第二季出货4套EUV系统,比先前预测的多了1套;Wennink表示这是因为逻辑组件客户准备要在今年稍晚量产下一代产品。

被视为5纳米以下先进半导体制程重要推手的EUV微影技术终于在迟到数年后迈入量产阶段,包括三星(Samsung)、英特尔(Intel)与台积电(TSMC)都打算在明年采用EUV进行量产;不过EUV技术仍存在与光源、良率等方面的挑战

而ASML表示,该公司现在已经证实能在NXE:3400B系列EUV系统的出货上,达到超过85%的4周交货期,并正在执行数个项目以期在2019年达到超过90%的如期交货。

Wennik还指出,ASML的DUV微影业务持续发展蓬勃,主要来自于内存市场需求;他表示该市场至少在今年与2019年仍然需要大量的微影系统。而ASML在2018上半年业绩表现亮眼,预期下半年也将维持成长力道,获利方面的成长可望延续至第三季、第四季。

展望第三季,ASML预期销售额在27亿至28亿欧元之间(约为31.5亿美元~32.6亿美元)。

编译:Judith Cheng

本文为《电子工程专辑》原创,版权所有,谢绝转载

qrcode_EETCwechat_120.jpg

关注最前沿的电子设计资讯,请关注“电子工程专辑微信公众号”

本文为EET电子工程专辑 原创文章,禁止转载。请尊重知识产权,违者本司保留追究责任的权利。
广告
相关新闻
广告
广告
广告
广告