向右滑动:上一篇 向左滑动:下一篇 我知道了
广告

中国造出首台自主新式光刻机,未来可造10nm芯片

时间:2018-11-30 作者:网络整理 阅读:
中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露,新验收的光刻机,加工能力介于深紫外级和极紫外级之间,使用了365纳米紫外光的汞灯,一只费用仅为数万元,而光刻机整机价格在百万元至千万元级,“让很多用户大喜过望”……

北京时间11月29日,中科院光电技术研究所宣布国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机。yd7EETC-电子工程专辑

20181130-semi-equipment-5.jpgyd7EETC-电子工程专辑

中国科研机构研制新型光刻机(图自网络,侵删)yd7EETC-电子工程专辑

据中国《科技日报》报道,中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露,新验收的光刻机,使用了365纳米紫外光的汞灯,一只费用仅为数万元,而光刻机整机价格在百万元至千万元级。yd7EETC-电子工程专辑

20181130-semi-equipment-4.jpgyd7EETC-电子工程专辑

项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况(图自网络,侵删)yd7EETC-电子工程专辑

 yd7EETC-电子工程专辑

胡松还说,中科院光电技术研究所研制的光刻机加工能力介于深紫外级和极紫外级之间,“让很多用户大喜过望”。yd7EETC-电子工程专辑

全新路线,完美避开国外厂商专利

光刻机是集成电路制造业的核心角色。光刻机相当于一台投影仪,将精细的线条图案投射于感光平板,光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。“光太胖,门缝太窄,光就过不去了。”参与研究的科学家杨勇告诉记者。yd7EETC-电子工程专辑

目前,使用深紫外光源的光刻机是主流,成像分辨力极限为34纳米,分辨率进一步提高要用多重曝光等技术,很昂贵。yd7EETC-电子工程专辑

光刻机巨头荷兰ASML公司垄断了尖端集成电路光刻机,加工极限为7纳米。ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源,价格高达3,000万元,还要在真空下使用。yd7EETC-电子工程专辑

2003年中科院光电所开始研究一种新办法:金属和非金属薄膜贴合,交界面会有无序的电子;光线照射金属膜,使这些电子有序振动,产生波长短得多的电磁波,可用于光刻。如此一来,“宽刀”就变成了“窄刀”。yd7EETC-电子工程专辑

20181130-semi-equipment-1.jpgyd7EETC-电子工程专辑

胡松表示,该光刻机在365纳米波长光源下,单次曝光最高线宽分辨率达到22纳米,,相当于1/17波长。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。擅长加工一系列纳米功能器件,包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件。yd7EETC-电子工程专辑

20181130-semi-equipment-2.jpgyd7EETC-电子工程专辑

报道称,中科院光电技术研究所目前已掌握超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利,“技术完全自主可控,在超分辨成像光刻领域国际领先”。yd7EETC-电子工程专辑

ASML设备仍占主流,国产仍需努力

在此之前,2002年成立的上海微电子已经率先研发出了90nm制程的光刻机,现在中国科学院光电技术研究所研发的22nm光刻机已经通过验收,可以说实现了跨越级的进步。据了解,这种超分辨光刻装备制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微系统所等多家科研院所和高校的重大研究任务中得到应用。yd7EETC-电子工程专辑

20181130-semi-equipment-3.jpgyd7EETC-电子工程专辑

虽然中国科研机构研发出新型光刻机,但荷兰ASML公司研制的光刻机仍是中国客户的首选。今年的5月底,据荷兰媒体报道,中国芯片巨头“长江存储”从ASML订购的价值7,200万美元的光刻机运抵湖北武汉。yd7EETC-电子工程专辑

另日本媒体报道,中国另一家芯片制造企业中芯国际也向ASML公司订购一台价值1.2亿美元的光刻机,预计将在2019年交货。yd7EETC-电子工程专辑

继中兴通讯、福建晋华后,据报道,美国考虑制裁中国监控设备巨头海康威视,切断芯片供应。而这会促使中国加快应用国产装备的步伐。yd7EETC-电子工程专辑

本文综合自科技日报、多维新闻、新华网、快科技、凤凰新闻报道yd7EETC-电子工程专辑

本文为EET电子工程专辑 原创文章,禁止转载。请尊重知识产权,违者本司保留追究责任的权利。
您可能感兴趣的文章
  • 中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术? 作为制造芯片的核心装备,光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平,日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化,国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术呢?
  • 中国大陆晶圆厂跟踪调研:2019年中国20家FAB情况中期盘 近年来,国内各地纷纷上马晶圆制造厂,各级地方政府盲目支持项目上马。为了自主可控,为了提升我国的集成电路水平,是需要建设自己的晶圆厂,但是真的需要遍地开发,几乎每个省市都投资建设晶圆厂项目吗?为了让大家对国内各家FAB情况有新的了解,现将今年上半年20家FAB有关情况整理如下:其中,有2家在投产,12家在建,4家在规划中或新增规划,2家已经处于停摆状态。
  • 人民日报批“国产光刻机”自嗨文误导公众,损坏中国科研 前不久中科院研发成功世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机的消息刷屏了,但部分自媒体为了吸引眼球就肆意夸大。那些夸大其词、违背事实的“自嗨文”,从某种意义上讲,与假新闻无异,不仅会误导公众,还会损坏中国科研事业的形象。
  • NAND闪存的几种类型和对比 由于闪存的成本取决于其裸片面积,如果可以在同样的面积上存储更多数据,闪存将更具成本效益。本文将会介绍SLC、MLC和TLC这三种NAND闪存的主要类型特性,它们的特性比较,以及NAND闪存的未来发展趋势。
  • ASML供应商发生火灾,2019年光刻机出货将延迟 光刻机霸主荷兰ASML公司最近突发一起事故。其元件供应商Prodrive工厂12月1日发生火灾,ASML预计明年年初出货预计将遭递延。
  • 是时候扩展EUV技术蓝图了! 随着极紫外光微影(EUVL)将在今年大量使用,以及高数值孔径(NA)版本的开发,现在正是预先准备好下一步的时候了。
相关推荐
    广告
    近期热点
    广告
    广告
    广告
    可能感兴趣的话题
    广告