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KLA推电子束缺陷检测系统,提高EUV工艺良品率

时间:2020-07-21 阅读:
KLA公司宣布推出eSL10™电子束图案化晶圆缺陷检查系统。该系统具有独特的检测能力,能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷,从而加速了高性能逻辑和存储芯片的上市时间(包括那些依赖于极端紫外线(EUV)光刻技术的芯片)。
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2020年7月20日,KLA公司宣布推出eSL10™电子束图案化晶圆缺陷检查系统。该系统具有独特的检测能力,能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷,从而加速了高性能逻辑和存储芯片的上市时间(包括那些依赖于极端紫外线(EUV)光刻技术的芯片)。

KLA方面称,eSL10的研发是始于最基本的构架,针对研发生产存在多年的问题而开发出了多项突破性技术,可提供高分辨率,高速检测功能,这是市场上任何其他电子束系统都难以比拟的。

KLA电子束部门总经理Amir Azordegan表示:“利用单一的高能量电子束,eSL10系统将电子束检测性能提升到了一个新水平。在此之前,电子束检测系统不能兼顾灵敏度和产能,严重限制了实际的应用。我们优秀的研发工程团队采用了全新的方法来设计电子束架构以及算法,研制出的新系统可以解决现有设备无法解决的问题。目前,KLA将电子束检测列入对制造尖端产品至关重要的设备清单。”

图:针对先进的逻辑、DRAM和3D NAND器件,KLA革命性的eSL10™电子束图案化晶圆缺陷检测系统利用独特的技术发现甄别产品中的关键缺陷。

eSL10电子束检测系统具有多项革命性技术,能够弥补对关键缺陷检测能力的差距。独特的电子光学设计提供了在业界相对比较广泛的操作运行范围,能够捕获各种不同工艺层和器件类型中的缺陷。Yellowstone™扫描模式每次可以扫描收集100亿像素的信息,支持高速运行的同时不会影响分辨率,以在较大区域内也能高效地研究潜在弱点,实现缺陷发现。Simul-6™传感器技术可以通过一次扫描同时收集表面、形貌、材料对比度和深沟槽信息,从而减少了在具有挑战性的器件结构和材料中识别不同缺陷类型所需的时间。凭借其先进的人工智能(AI)系统,eSL10运用了深度学习算法,能满足IC制造商不断发展的检测要求,杜绝了对器件性能影响最关键的缺陷。

三维器件结构,例如用于内存应用的3D NAND和DRAM,以及用于逻辑器件的FinFET和GAA(Gate-All-Around)结构,都要求晶圆厂重新考虑传统的缺陷控制策略。eSL10与KLA的旗舰39xx(“ Gen5”)和29xx(“ Gen4”)宽光谱晶圆缺陷检测系统的结合,为先进IC技术提供缺陷发现和监测解决方案。这些系统共同合作,提高了产品的良率和可靠性,将更快地发现关键缺陷,并能够更快地解决从研发到生产的缺陷问题。

KLA表示,新推出的eSL10系统平台具有独特的扩展性,可以延申到整个电子束检测和量测应用中。全球范围内先进的逻辑器件、存储器和工艺设备制造商都在使用eSL10系统,利用该系统帮助研发生产过程,提升和监测下一代产品制工艺和器件的制造。为了保持其高性能和生产力表现,eSL10系统拥有KLA全球综合服务网络的支持。

责编:Luffy Liu

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