美国有强烈的倾向将日本、荷兰拉进自己主导的技术管控阵营。这基本上在实现了技术封堵的同时，还能保证本国企业利益不受损失或尽可能减少损失。然而，日本、荷兰企业也自然不愿完全置自身利益于不顾而“尽忠”美国，必然有一番讨价还价。可以说，ASML声明就是美日荷三国以及相关企业博弈的结果。
今年2月，美国、荷兰、日本三国政府达成协议，将对中国芯片制造施加新的设备出口管制和限制。尽管协议具体内容未公开，但这一消息引起了中国的强烈反对。
3月9日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时ASML还表示，“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”
图源：BBC NEWS
据悉，目前荷兰政府已经计划对半导体技术出口实施新的管制。而且，这些管制措施将在今年夏天之前开始实施，同时会出台一份国家管控清单。
毫无疑问，新的半导体技术出口管制涉及的企业就是ASML。而ASML的最新声明也阐明了新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
最近几年，美国一直在不断的加大力度封锁中国获取先进芯片和制造半导体的能力，对中国芯片产业发展将产生重大影响。3月29日，AspenCore将在上海举办国际集成电路展览会暨研讨会（IIC Shanghai 2023）。作为IIC 2023重要论坛活动之一，2023年中国IC领袖峰会将邀请行业代表企业高层重点分析半导体行业与技术发展趋势，探讨未来行业发展的应变之道，以及进一步推动产业链上下游深度交流与合作。欢迎报名：https://m.zhundao.net/event/342548?track=0135
ASML是美国技术围堵的重要环节
2022年10月开始，拜登政府对中国芯片业出台严格出口管制措施，并开始积极拉拢荷兰、日韩等盟友加入制裁。目前，日本、荷兰均已经被美国拉进对华芯片管制阵营，必将对中国芯片产业发展带来负面影响。
其实，从半导体产业链来看，美日荷三国分别在芯片设计、半导体材料、半导体制造环节占有绝对技术优势。同时，芯片发端于美国，使其拥有众多技术专利，且在半导体设备领域也有较强的控制力。比如，最近，美国应用材料公司就已开始销售一种芯片制造机器，其可减少行业对阿斯麦的依赖，并以更低廉的价格生产能够处理人工智能任务的先进芯片。
光刻机是芯片制造不可或缺的关键设备。目前全球光刻机市场主要被荷兰ASML，日本的尼康、佳能所垄断，三家企业合计市场份额超过90%，且基本上完全控制了先进光刻机的生产。
然而，如果完全禁售包括DUV在内的光刻机，那么无疑对中国芯片产业发展造成重大影响，但要完全限制中国芯片产业发展已不现实，也没有必要。
据悉，目前上海微电子IC前道制造光刻机能实现90nm芯片量产，目前在攻克28nm光刻机。而28nm光刻机也仅光源技术受制于国外企业。然而，即使90nm的工艺制程，也可以满足WiFi芯片、LCD驱动芯片、电源管理芯片、射频芯片、各种数模混合电路等制造。这也是为何ASML在声明中阐明限制措施不适用于所有浸入式光刻设备。
不过，ASML的确是美国芯片技术封堵政策中的重要一环。而实际上，美国拉上日荷“组局”，就相当于精心设计了类似咽喉要道的机制和系统的遏制策略和行动，打击力度远超此前相关措施。
限制措施不会对ASML财务产生重大影响
尽管目前美国拉上日本、荷兰玩起“技术制霸的游戏”，但实际上背后还有一些私利在主导限制措施会达到何种程度。除了限制中国芯片产业发展的总体目标，美国政府还需考量对本土半导体设备厂商的影响。
实际上，美国在晶圆制造设备供应方面也具有明显的技术和市场优势，特别在沉积、蚀刻、过程控制、化学机械抛光 (CMP) 和离子注入设备方面占据了大部分市场份额。不过，包括应用材料、Lam Research和KLA在内的许多美国设备制造商都抱怨，政府的全面单边出口管制可能会让它们的海外竞争对手——如荷兰的ASMI和日本的TEL扩大市场份额。
这些企业甚至强调，如果不限制荷兰制造商ASML和日本尼康、佳能向中国出口深紫外光刻设备（DUV），美国施加的单边出口限制将难以发挥其应有的作用。ASML在浸没式DUV设备市场与尼康不相上下，佳能虽然不卖DUV，但在干式光刻系统市场与ASML竞争激烈。
正因为如此，美国也才有更强烈的倾向将日本、荷兰拉进自己主导的技术管控阵营。这基本上在实现了技术封堵的同时，还能保证本国企业利益不受损失或尽可能减少损失。然而，日本、荷兰企业也自然不愿完全置自身利益于不顾而“尽忠”美国，必然有一番讨价还价。可以说，ASML声明就是美日荷三国以及相关企业博弈的结果。
ASML也预计，出口管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。
截至目前，ASML尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。
您可能感兴趣
