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ASML新一代高数值孔径光刻机 HIGH NA EUV 为什么这么贵?

时间:2021-12-13 20:47:50 作者:综合报道 阅读:
光刻机可以说是芯片之光,荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机,且产量非常少,价格贵。最近,ASML爆出其新一代高数值孔径光刻机将于2025年首批供应给Intel,价格将达到3亿美金,比现在最高端的EUV贵一倍。
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光刻机可以说是芯片之光,荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机,且产量非常少,价格贵。最近,ASML爆出其新一代高数值孔径光刻机将于2025年首批供应给Intel,价格将达到3亿美金,比现在最高端的EUV贵一倍。

按照业内预判,2025年前后半导体在微缩层面将进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃=0.1纳米),其中2025对应A14(14Å=1.4纳米)。除了新晶体管结构、2D材料,还有很关键的一环就是High NA(高数值孔径)EUV光刻机。根据ASML(阿斯麦)透露的最新信息,第一台原型试做机2023年开放,预计由imec(比利时微电子研究中心)装机,2025年后量产,第一台预计交付Intel。

Gartner分析师Alan Priestley称,0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元。

那么这么贵的机器,到底能实现什么呢?

ASML发言人向媒体介绍,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。

当然,ASML并不能独立做出高NA EUV光刻机,还需要德国蔡司以及日本光刻胶涂布等重要厂商的支持。

ASML现售的0.33NA EUV光刻机拥有超10万零件,需要40个海运集装箱或者4架喷气货机才能一次性运输完成,单价1.4亿美元左右。

去年ASML仅仅卖了31台EUV光刻机,今年数量提升到超100台。

据悉,相较于当前0.33NA的EUV光刻机,0.55NA有了革命性进步,它能允许蚀刻更高分辨率的图案。

分析师Alan Priestley称,0.55NA光刻机一台的价格会高达3亿美元(约合19亿),是当前0.33NA的两倍。

早在今年7月,Intel就表态致力于成为高NA光刻机的首个客户,Intel营销副总裁Maurits Tichelman重申了这一说法,并将高NA EUV光刻机视为一次重大技术突破。

国内高端光刻机急缺

中国大陆的高端光刻机由于被美国限制,无法购买,导致这一领域几乎是空白。

近日,有两家半导体厂商购得ASML光刻机。一家是第三代半导体厂商英诺赛科,另一家是本土光刻胶企业晶瑞电材。虽然不像中芯国际一样,直接涉及高端芯片制造产业,但也说明光刻机在对华合作程度上进一步紧密。

就在今年上海进博会上,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波就光刻机再次表态称,向我国出口集成电路光刻机持开放态度,在法律法规框架下全力支持。不过,EUV光刻机依然无法出货给大陆客户,但除此之外其他产品都可以出货。也就是说,DUV光刻机不受其他限制。

此前,ASML曾连续四次公开表态。第一次表示会加快布局我国市场,提供更加完善的售后服务。第二次直接表示向国内厂商销售DUV光刻机,不需要许可。第三次直接提高了对我国市场的营收预期。在去年的进博会上,ASML第四次表示向我国出售光刻机持开放态度。

责编:EditorDan

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