半导体组件和电子器件都需要IV与CV测量,以提取制造过程的关键信息或验证器件性能。传统上,IV 测量使用SMU,CV测量使用LCR表、电容测量单元(CMU)或阻抗分析仪。测试系统必须用一个整合开关对待测物(DUT) 的CV和IV两种测量结合起来,然而这将使测量精度降低并增加测试时间。
在本次线上研讨会中,您将有机会了解NI最先进的LCR仪器,可以将IV和CV测试集成在一起,同时执行f-F/f-A类测量, 并了解如何将它应用在优化实验室空间,同时提高MEMS、超声波传感器、晶圆参数和iPD CV/IV测量精度。随着设备复杂性的持续快速上升和上市时程的缩短,参加本次研讨会探索通过崭新的仪表架构,优化半导体参数测试,并节省成本。
【报名研讨会,赢千元红包,最低5元起!】
凡6月30日10:30-11:30前报名注册本场研讨会,即可参与抽奖!
•只要报名成功即可参与抽奖
•千元红包等你瓜分
•100%中奖,至少5元红包!
罗技G502鼠标、小米筋膜枪、腾讯视频月卡、电子工程专辑杂志、5元红包、10元红包,好礼多多,快快参与!
点击此页面报名或直接扫码上方二维码报名成功,即可参与幸运抽奖啦,心动不如行动,赶紧扫码参与活动吧!
NI公司于1976年5月在美国德克萨斯州成立,总部设于美国得克萨斯州的奥斯汀市,为纳斯达克上市公司(NASDAQ: NATI),在全球有50多个国家设有办事处,为全球超过35,000家公司提供服务,NI在全球拥有约7000名员工。
40多年来,NI开发了众多自动化测试和自动化测量系统,助力工程师解决全球最严峻的难题。