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事半功倍 - 更准确快速的IV-CV测量方法

研讨会介绍

半导体组件和电子器件都需要IV与CV测量,以提取制造过程的关键信息或验证器件性能。传统上,IV 测量使用SMU,CV测量使用LCR表、电容测量单元(CMU)或阻抗分析仪。测试系统必须用一个整合开关对待测物(DUT) 的CV和IV两种测量结合起来,然而这将使测量精度降低并增加测试时间。

在本次线上研讨会中,您将有机会了解NI最先进的LCR仪器,可以将IV和CV测试集成在一起,同时执行f-F/f-A类测量, 并了解如何将它应用在优化实验室空间,同时提高MEMS、超声波传感器、晶圆参数和iPD CV/IV测量精度。随着设备复杂性的持续快速上升和上市时程的缩短,参加本次研讨会探索通过崭新的仪表架构,优化半导体参数测试,并节省成本。

演讲嘉宾
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周文昊
NI亚太区半导体业务发展经理_Mixed Signal
周文昊先生目前担任NI公司亚太区混合信号半导体业务发展经理。对于功率电子、混合信号电路以及高速串行数字设计和测试等领域具有丰富经验,在电子测试与测量产品研发、销售和市场推广方面具有超过二十年的从业经历。 周文昊先生毕业于哈尔滨工业大学,拥有工学硕士学位。
幸运礼物
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公司介绍

NI公司于1976年5月在美国德克萨斯州成立,总部设于美国得克萨斯州的奥斯汀市,为纳斯达克上市公司(NASDAQ: NATI),在全球有50多个国家设有办事处,为全球超过35,000家公司提供服务,NI在全球拥有约7000名员工。

40多年来,NI开发了众多自动化测试和自动化测量系统,助力工程师解决全球最严峻的难题。

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